专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
三菱化学株式会社
>
清洗液、清洗方法和半导体晶片的制造方法技术
>技术资料下载
下载清洗液、清洗方法和半导体晶片的制造方法的技术资料
文档序号:27947704
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及清洗液,其包含成分(A):下述通式(1)所表示的化合物、成分(B):烷基胺、成分(C):多元羧酸、成分(D):抗坏血酸,其中,成分(A)的质量相对于成分(B)和成分(C)的合计质量之比为1~15。(所述通式(1)中,R...
该专利属于三菱化学株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱化学株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。