下载清洗液、清洗方法和半导体晶片的制造方法的技术资料

文档序号:27947704

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本发明涉及清洗液,其包含成分(A):下述通式(1)所表示的化合物、成分(B):烷基胺、成分(C):多元羧酸、成分(D):抗坏血酸,其中,成分(A)的质量相对于成分(B)和成分(C)的合计质量之比为1~15。(所述通式(1)中,R...
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