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外延基板制造技术
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文档序号:27947692
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外延基板具备主面为c面的GaN基板、以及在主面上外延生长的GaN层,主面具有偏离角为0.4°以上的区域,在该区域上生长的前述GaN层中的E3陷阱浓度为3.0×10...
该专利属于赛奥科思有限公司;住友化学株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过赛奥科思有限公司;住友化学株式会社授权不得商用。
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