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本发明公开了一种可用于光电子器件散热的高耐热结构及其制备方法，属于耐热材料领域，高耐热结构，其特征在于，从下到上依次为附着面和薄膜结构，所述薄膜结构从下到上依次为吸热剂、中间连接剂、耐热剂和保护剂；所述薄膜结构以质量成分计，分别为，吸热剂3...
该专利属于电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过电子科技大学授权不得商用。

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