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本发明提供用于以原子层水平形成有机膜的基片处理方法和等离子体处理装置。在例示的实施方式中，提供基片处理方法。基片处理方法包括：a)将基片提供到腔室内的步骤；和b)在基片的表面形成有机膜的步骤。b)包括两个步骤b1)和b2)。b1)对腔室内供...
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