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本申请公开了一种半导体清洗剂及其制备方法，属于半导体清洗技术领域。该半导体清洗剂包括非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂及有机溶剂，按质量份数计，非离子表面活性剂2‑5份，阴离子表面活性剂9‑12份、有机溶剂3‑6份。通过半导体清洗剂制备方法...
该专利属于德锡化学(山东)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过德锡化学(山东)有限公司授权不得商用。

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