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本发明揭示了一种低VOC的半导体芯片清洗剂及其制备方法，所述清洗剂的pH值为7.2‑8.5，所述清洗剂的VOC≤100g/L，其组成和重量份数为，醇醚溶剂3‑80份，N‑羟乙基‑2‑吡咯烷酮2‑10份，非离子表面活性剂0.6‑5份，缓蚀剂0...
该专利属于苏州柏越纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州柏越纳米科技有限公司授权不得商用。

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