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在半导体制造中工艺气体的流量控制方法、设备和系统技术方案
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下载在半导体制造中工艺气体的流量控制方法、设备和系统的技术资料
文档序号:2784841
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半导体制造中用于控制工艺气体的分批输送的一种流量控制系统和方法。其中该流量控制系统可于输送周期内在输送一批工艺气体的流动模式下和或者非流动模式下运行。在启动输送后,于测量周期测量该系统基准容积中气体的压降,同时中断从工艺气体源到基准容积的工...
该专利属于帕克-汉尼芬公司所有,仅供学习研究参考,未经过帕克-汉尼芬公司授权不得商用。
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