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本实用新型公开了一种等离子体化学气相沉积工艺用基座，包括有金属基座、环形台阶和多个绝缘条块，每个绝缘条块的一端均具有呈台阶状的上搭接部，每个绝缘条块的另一端均具有呈台阶状的下搭接部，相邻二个绝缘条块的上搭接部与下搭接部分别搭接在一起；环形台...
该专利属于合肥微睿光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥微睿光电科技有限公司授权不得商用。

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