温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请涉及微电子装置和微电子装置制造。所述设备包括：传导区段，所述传导区段包括不均匀形貌，所述不均匀形貌包括所述传导区段的在下面的材料的上表面上方突出的上表面；第一钝化材料，所述第一钝化材料基本上共形地位于所述传导区段上面；以及第二钝化材料...
该专利属于美光科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过美光科技公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。