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本发明提出了一种低介电、低损耗聚酰亚胺薄膜及其制备方法，包括将介孔分子筛与正硅酸乙酯、含氨基硅烷化偶联剂和氨水进行反应，得到表面氨基修饰的介孔材料；将所述表面氨基修饰的介孔材料与二胺以及二酐单体进行缩聚反应后，再进行热亚胺化并成膜，即得到所...
该专利属于浙江中科玖源新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江中科玖源新材料有限公司授权不得商用。

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