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本发明提供一种四重图形的制作方法，其主要采用正性光刻胶的负性显影方法，通过进行若干次的正胶曝光-负性显影以及表成像技术，在基底上制作出四重图形，然后通过刻蚀将四重图形转移至硬掩膜中。本发明的制作方法具有低成本、高工艺效率的优点。另外，本发明...
该专利属于芯恩（青岛）集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芯恩（青岛）集成电路有限公司授权不得商用。

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