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提供了等离子体处理设备和相关的方法。在一个示例实施方式中,所述等离子体处理设备可包括位于等离子体处理设备的处理腔室中的气体供给装置,例如感应耦合等离子体处理设备。该气体供给装置可包括一个或多个喷嘴。所述一个或多个喷嘴中的每一个可相对于与工件...该专利属于北京屹唐半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京屹唐半导体科技有限公司授权不得商用。
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