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本实用新型提供一种浸润式光刻系统。该光刻系统由一个光学表面、一个与光学表面的一部分接触且pH值小于7的浸润流体、以及一个上表面形成有光阻层的半导体结构所构成,其中该光阻层的部分表面与浸润流体接触。本实用新型提供的光刻系统,不仅提高了分辨率,...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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本实用新型提供一种浸润式光刻系统。该光刻系统由一个光学表面、一个与光学表面的一部分接触且pH值小于7的浸润流体、以及一个上表面形成有光阻层的半导体结构所构成,其中该光阻层的部分表面与浸润流体接触。本实用新型提供的光刻系统,不仅提高了分辨率,...