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本发明涉及一种具有优异的抗后曝光延迟效应的光致抗蚀剂组合物及一种使用该组合物形成光致抗蚀图案的方法。更具体地说，本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，其包括（ｉ）光致抗蚀剂聚合物和（ｉｉ）赋予光致抗蚀剂组合物剪切稀化特性的有机溶剂，例如非牛顿溶剂...
该专利属于现代电子产业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过现代电子产业株式会社授权不得商用。

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