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提供了一种能够同时确保高敏感性和优良的存放稳定性的游离基光聚合系统组合物形式的光聚合性组合物，该组合物的敏感性最高，在成像技术中是非常有前景的。该光聚合性组合物含有具有特殊结构的含光聚合基团的化合物和光聚合引发剂。...
该专利属于富士胶片株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶片株式会社授权不得商用。

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