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本发明是一种对基片进行涂敷和显影处理的系统，该系统包含处理部分，该处理部分有用于在基片上形成涂层薄膜的涂敷单元、用于对基片显影的显影单元、用于对基片进行热处理的热处理单元、用于将基片送入／送出这些涂敷单元、显影单元和热处理单元的第一运送单元...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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