温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
一种母掩模的制造方法，用于在被曝光体（２）上对具有能一次曝光的区域以上大小的图形进行曝光。将具有能一次曝光的区域以上大小的图形分割成重复性低的区域（４）、以及重复性高的区域（Ａ）。其次，将上述重复性低的区域（４）的图形描绘在至少一个第一母掩...该专利属于株式会社东芝;大日本印刷株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社东芝;大日本印刷株式会社授权不得商用。
温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
一种母掩模的制造方法，用于在被曝光体（２）上对具有能一次曝光的区域以上大小的图形进行曝光。将具有能一次曝光的区域以上大小的图形分割成重复性低的区域（４）、以及重复性高的区域（Ａ）。其次，将上述重复性低的区域（４）的图形描绘在至少一个第一母掩...