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本发明涉及一种用于清洗光刻胶的组合物并提供一种清洗组合物，其中，含颜料的负性光刻胶在经清洗、温和烘干、曝光和显影之后，在所述清洗区域与未清洗区域之间的边界面上不存在所述光刻胶残余物。本发明提供一种用于清洗正性或负性光刻胶的组合物，包括：（ａ...
该专利属于AZ电子材料（日本）株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过AZ电子材料（日本）株式会社授权不得商用。

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