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本发明涉及含有（Ａ）含有碱可溶性结构单元（ａ１），并且在酸的作用下碱可溶性发生变化的聚合物，其中结构单元（ａ１）含有同时具有（ｉ）氟原子或氟代烷基和（ｉｉ）醇羟基的脂环基，以及（Ｂ）通过光照产生酸的酸发生剂的液浸曝光处理用抗蚀剂组合物，以及...
该专利属于东京応化工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京応化工业株式会社授权不得商用。

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