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一种除去相移掩模上生长的杂质的方法。该方法通过在清洗之后进一步执行ＨＦ清洗和烘焙，有利地控制杂质生长，以使清洗过程中产生的残余化学离子的数量最小化。具体地，该方法包括，在石英衬底上形成包括相移膜和光阻挡膜的相移掩模图形，使用包含硫酸离子或铵...
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