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本发明提供一种用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法。将一影像感测器阵列曝光于一光源的光。收集对应于一瞳孔图像的多个位置的地址及个别的强度，其是表示该光源的光在该影像感测器阵列上的强度。依据收集的该地址及强度，定义该瞳孔图像的内曲线及外曲线...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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