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一种方法，包括：　　　　在已完成的半导体设计中对不含所设计的形状的区域定位；　　　　在所述区域中以预定的最终密度生成虚拟填充形状；　　　　调整所生成的虚拟填充形状的尺寸，使得其局部密度被增大到预定值；以及　　　　对所述虚拟填充形状建立相应的...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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