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检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法技术
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文档序号:2743821
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本发明公开了一种检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法。具体地,本发明涉及为了确定衬底属性而进行的、对从衬底衍射的四个独立的偏振束的同时测量。圆偏振光源或椭圆偏振光源经由多达三个偏振元件通过。这将光源偏振化为0、45、90和135...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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