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本发明涉及一种与微米或纳米级的光刻结构相关联的设备及方法。根据本发明实施例的纳米压印设备包括用于将微米或纳米尺寸的图案转印到待图案化的基板上的两个可转动安装辊。第一可转动安装辊具有图案化圆周表面，用于通过使该图案化圆周表面与可变形基板相接触...
该专利属于奥贝达克特公司所有，仅供学习研究参考，未经过奥贝达克特公司授权不得商用。

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