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一种用于光刻设备的对准系统，将包括全局型和局部型位置检测器在内的多个位置检测器集成在一个对准系统中；整个系统结构紧凑，具有较强工艺适应性、能够产生高灵敏度和高信噪比的对准信号。一种对准方法，在不同的工艺情况下可以选择不同的位置检测器进行对准...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

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