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已发现一种组合物，其特征是存在具有芳族残基、且对１９３纳米辐射波长的折射率值ｎ小于１．５的可溶于碱性水溶液的聚合物，其尤其可用作１９３纳米干式光刻法中的顶部抗反射涂层。已发现，具有烯式骨架并具有氟和磺酸残基的聚合物尤其有用。该组合物能够利用...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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