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本发明公开了一种低蚀刻性光刻胶清洗剂，其含有：苯甲醇和／或其衍生物、季铵氢氧化物和二甲基亚砜。本发明的清洗剂可用于除去金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶（光阻）和其它残留物，且同时对于二氧化硅、铜等金属和低ｋ材料等具有较低的蚀刻速率，在半...
该专利属于安集微电子(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子(上海)有限公司授权不得商用。

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