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本发明公开了一种在旋涂法中提高所制备薄膜厚度的方法，系在镀膜基板上利用旋涂光刻胶或粘贴胶带的方法设置凸起的台阶，台阶的高度为５－５００μｍ，形成闭合的边框，在边框围成的区域内滴加溶液利用旋涂法制备薄膜。采用该方法可以大幅度地提高每次旋涂薄膜...
该专利属于电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过电子科技大学授权不得商用。

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