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本发明公开一种含有式（Ⅰ）的聚集染料的辐射敏感材料和照相材料，其中Ｘ、Ｒ↑［１］－Ｒ↑［４］、Ｌ↑［１］、Ｌ↑［２］、Ｌ↑［３］、Ｍ↑［＋］、ｎ如说明书中所定义，其中聚集染料具有小于５５ｎｍ的吸收半谱带宽度。...
该专利属于伊斯曼柯达公司所有，仅供学习研究参考，未经过伊斯曼柯达公司授权不得商用。

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