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本发明公开了一种用于将图案刻写到衬底上的系统和方法。第一和第二光束被引导以在衬底上的公共区域中会聚并大致重合。这可以实现，以使得第一和第二光束在重合区域中在时间上和空间上相干，以形成干涉条纹，从而限定刻写图像。调整第一和第二光束的束宽。这可...该专利属于ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司授权不得商用。