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本发明提供了一种介质共用的电阻场板场效应MOS器件及其制备方法,本发明提供的介质共用的电阻场板场效应MOS器件,在槽栅MOS器件的基础上,于漂移区中增设一个同时与槽栅结构和漏极结构电连接的半绝缘电阻场板,在槽栅结构控制MOS沟道的通断的同时...该专利属于中国电子科技集团公司第二十四研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国电子科技集团公司第二十四研究所授权不得商用。
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本发明提供了一种介质共用的电阻场板场效应MOS器件及其制备方法,本发明提供的介质共用的电阻场板场效应MOS器件,在槽栅MOS器件的基础上,于漂移区中增设一个同时与槽栅结构和漏极结构电连接的半绝缘电阻场板,在槽栅结构控制MOS沟道的通断的同时...