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半导体组件及其制造方法技术
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文档序号:27260554
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本发明提供一种半导体组件及其制造方法,所述制造方法包括以下步骤。在衬底上形成彼此分离的第一密封环与第二密封环。在所述衬底上形成保护层,覆盖所述第一密封环与所述第二密封环,其中所述第一密封环与所述第二密封环之间的所述保护层具有凹面。移除位于所...
该专利属于华邦电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过华邦电子股份有限公司授权不得商用。
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