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一种具有改进的排气结构的基板处理设备包括接地的导电延伸部,其配置成防止在连接到反应空间的排气空间中产生寄生等离子体。基板处理设备防止在反应空间以外的区域比如反应空间中产生寄生等离子体。因此,可以防止功率损失并且可以实现稳定的等离子体处理。损...该专利属于ASMIP私人控股有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASMIP私人控股有限公司授权不得商用。
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一种具有改进的排气结构的基板处理设备包括接地的导电延伸部,其配置成防止在连接到反应空间的排气空间中产生寄生等离子体。基板处理设备防止在反应空间以外的区域比如反应空间中产生寄生等离子体。因此,可以防止功率损失并且可以实现稳定的等离子体处理。损...