专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
浙江宏禧科技有限公司
>
一种湿法刻蚀制备硅基OLED阳极的方法技术
>技术资料下载
下载一种湿法刻蚀制备硅基OLED阳极的方法的技术资料
文档序号：27194712
温馨提示：您尚未登录，请点
登陆
后下载，如果您还没有账户请点
注册
，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开一种湿法刻蚀工艺制备硅基OLED阳极的方法，包括以下步骤：用去离子水清洗硅基板，在硅基板上蒸镀阳极层，在阳极层上形成抗反射涂层和光刻胶层，用光刻技术制备出图形像素，采用腐蚀溶液腐蚀底部不被抗反射涂层和光刻胶层保护的阳极层，用N
该专利属于浙江宏禧科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江宏禧科技有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示：您尚未登录，请点
登陆
后下载，如果您还没有账户请点
注册
，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。