一种湿法刻蚀制备硅基OLED阳极的方法技术

本发明专利技术公开一种湿法刻蚀工艺制备硅基OLED阳极的方法，包括以下步骤：用去离子水清洗硅基板，在硅基板上蒸镀阳极层，在阳极层上形成抗反射涂层和光刻胶层，用光刻技术制备出图形像素，采用腐蚀溶液腐蚀底部不被抗反射涂层和光刻胶层保护的阳极层，用N

【技术实现步骤摘要】
一种湿法刻蚀制备硅基OLED阳极的方法


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其是一种湿法刻蚀制备硅基OLED阳极的方法。

技术介绍

[0002]微型有机发光二极管（OLED）显示器具有自发光，宽视角，高亮度，高流明效率，低操作电压，反应时间快等特点，被认为是具有潜力的显示技术之一且能满足消费者对显示技术的新需求并逐渐成为主流方向。有机电致发光器件的全彩化技术主要有白光器件结合彩色滤光片法、RGB像素独立发光法和下转换法等，其中以白光为背光，再加上彩色滤光片的方法能有效解决RGB像素金属荫罩对准精度问题，是目前业内公认实现全色彩显示最简单的方法。
[0003]一般白光器件结合彩色滤光片法的阳极像素点制造是由剥离（Lift-off）技术完成，剥离和湿法刻蚀技术共同点均使用溶液进行腐蚀，在大尺寸基片上使用溶液腐蚀技术，剥离的均匀性取决于溶液的温度、浓度等。两者除了工艺流程上的区别之外，在光刻胶的选择上也存在差异。Lift-off工艺为了防止蒸镀的金属膜连在一片导致溶液渗透不进去，通常采用负性光刻胶或者反转胶形成倒梯形，而负胶的分辨率比正本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种湿法刻蚀制备硅基OLED阳极的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一，用去离子水清洗硅基板；步骤二，在所述硅基板上蒸镀阳极层，所述阳极层包括钛膜层、镍膜层、铝膜层中的至少一种导电膜层，所述阳极层厚度为60纳米；步骤三，在所述阳极层上均匀旋涂一层碱溶性抗反射涂层BARC，厚度为0.8微米，在所述抗反射涂层上均匀旋涂一层正性光刻胶，厚度为1.5微米，所述抗反射涂层和光刻胶层的厚度均匀性误差在百分之三以下；步骤四，对所述光刻胶层和抗反射涂层进行前烘、曝光、显影、定影、后烘流程，被光照的区域溶解于显影液中，留下未被曝光的区域保护阳极像素图形；步骤五，采用腐蚀...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨震元，孙扬，吴康敬，
申请(专利权)人：浙江宏禧科技有限公司，
类型：发明
国别省市：