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本发明涉及用于在包括真空室的真空沉积设备内部在移动的基底上连续沉积由至少一种金属形成的涂层的方法；在基底的两侧上涂覆有具有平均厚度的至少一种金属的基底，其中涂层是被均匀地沉积的，使得所述涂层的最大厚度可以超过所述平均厚度最大15％；以及真空...
该专利属于安赛乐米塔尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过安赛乐米塔尔公司授权不得商用。

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