真空沉积设备和用于涂覆基底的方法技术

本发明专利技术涉及用于在包括真空室的真空沉积设备内部在移动的基底上连续沉积由至少一种金属形成的涂层的方法；在基底的两侧上涂覆有具有平均厚度的至少一种金属的基底，其中涂层是被均匀地沉积的，使得所述涂层的最大厚度可以超过所述平均厚度最大15％；以及真空沉积设备。备。备。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空沉积设备和用于涂覆基底的方法
[0001]本专利技术涉及用于在基底上连续沉积由金属或金属合金形成的涂层的方法。本专利技术还涉及用于该方法的真空沉积设备。
[0002]已知用于将最终由合金构成的金属涂层沉积在基底(例如钢带)上的各种方法。其中，可以提及热浸涂、电沉积以及各种真空沉积方法，例如真空蒸镀和磁控溅射。
[0003]由WO97/47782已知用于连续涂覆钢基底的方法，其中使以大于500m/秒的速度推动的金属蒸气喷雾与基底接触。沉积方法被称为射流气相沉积。
[0004]EP2048261公开了用于在金属基底上沉积涂层的蒸气发生器，所述蒸气发生器包括真空室，所述真空室呈围腔的形式，设置有确保相对于外部环境的低压状态的单元和允许基底进出的单元。围腔包括用于气相沉积的头部，以及用于在基底表面的和垂直于基底表面的方向上以声速形成金属蒸气射流的喷射器。喷射器通过供应管道与坩埚密封连通。坩埚容纳呈液体形式的金属混合物并且位于真空室外部，并且通过泵送或者通过气压效应将从置于大气压下的熔化炉中获得的熔体进料。布置有用于调节喷射器中金属蒸气的流量、压力和/或速度的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于在包括真空室(2)的真空沉积设备(1)内部在移动的基底(S)上连续沉积由至少一种金属形成的涂层的方法，其中所述方法包括：-以下步骤：其中在所述真空室中，经由至少两个蒸气喷射器(3、3')朝向所述移动的基底的两侧喷射金属蒸气，并通过所喷射的蒸气的冷凝来在各侧上形成至少一种金属的层，所述至少两个蒸气喷射器彼此面对，位于所述基底的两侧上并且分别以角度α和α'定位，所述角度α和α'是所述蒸气喷射器与垂直于所述基底的移动方向的轴(A)之间的，所述轴在所述基底的平面内，α和α'两者满足以下等式：(D1+D2)+Le sinα+We cosα＝Ws和(D1+D2)+Le sinα
′
+We cosα
′
＝Wsα和α'α的绝对值大于0
°
，以及D1和D2为喷射器与各基底边缘之间沿所述轴(A)的较短距离，W
s
为基底宽度，D1和D2大于0mm，即，喷射器边缘不超出所述基底边缘，以及所述蒸气喷射器具有细长的形状并且包括槽并且由槽长度Le和槽宽度We限定，所述蒸气喷射器具有相同的旋转轴。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述喷射器与所述基底边缘之间的所述距离D1和D2大于1mm。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述基底宽度Ws最大为2200mm。4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中Ws最小为200mm。5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中在绝对值方面，α'使得α-α'<10
°
。6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中α在绝对值方面为5
°
至80
°
。7.根据权利要求6所述的方法，其中α在绝对值方面为20
°
至60
°
。8.根据权利要求7所述的方法，其中α在绝对值方面为35
°
至55
°
。9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其中喷射器裂口的长度L
e
为5mm至50mm。10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其中所述喷射器具有矩形形状或...

【专利技术属性】
技术研发人员：埃里奇，
申请(专利权)人：安赛乐米塔尔公司，
类型：发明
国别省市：