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本实用新型公开了一种晶圆湿制程设备用烘干槽装置，包括槽壳体，所述槽壳体的内部设有供放置晶圆的内腔，所述槽壳体上安装有喷气管路，所述喷气管路伸入所述内腔以供向所述晶圆吹气，所述内腔的底部设有烘热底层，所述晶圆设置于所述烘热底层的上方。本实用新...
该专利属于上海新阳半导体材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海新阳半导体材料股份有限公司授权不得商用。

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