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本实用新型涉及真空薄膜制备技术领域，尤其是一种能实现稳定安全揭取基片的顶片机构，其特征在于：所述顶片机构包括至少一个顶片装置，所述顶片装置包括间隔布置的若干顶杆和若干吸盘，其中每个所述顶杆分别连接有凸轮并且每个顶杆可在各自的所述凸轮的驱动下...
该专利属于光驰科技(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光驰科技(上海)有限公司授权不得商用。

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