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本发明涉及支承单元和包括该支承单元的基板处理装置。一种支承单元，其设置在使用等离子体用于处理基板的装置中，所述支承单元包括：介电板，所述基板放置在所述介电板上；电极板，其设置在所述介电板的下方；电源棒，其将功率施用至所述电极板；以及凸缘，其...
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