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本发明公开了一种等离子处理装置及其方法，所述等离子处理装置包含：一真空反应腔，所述真空反应腔的下方还设置一真空泵，用于将反应副产物排出所述真空反应腔，所述等离子处理装置包含：多个安装紧固件，其用于将所述真空泵固定在所述真空反应腔腔体上；至少...
该专利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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