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一种等离子体处理设备及其用于等离子体处理设备的接地环组件，其中，等离子体处理设备包括：反应腔，所述反应腔包括反应腔侧壁，所述反应腔侧壁包括承载面；位于所述反应腔内底部的基座，所述基座用于承载待处理基片；包围所述基座的中接地环组件，所述中接地...
该专利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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