下载一种用于连续单晶硅生长的带有孔的容器的技术资料

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本实用新型提供一种用于连续单晶硅生长的带有孔的容器,包括设置在总熔体空间内的器壁,所述器壁所围成的空间形成晶体生长区,所述晶体生长区与所述总熔体空间同轴,所述器壁上加工有至少一个通孔,所述通孔用于所述总熔体空间内的熔体进入所述晶体生长区内,...
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