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制作于经预先图案化的衬底上的MEMS装置制造方法及图纸
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下载制作于经预先图案化的衬底上的MEMS装置的技术资料
文档序号:2693755
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本发明揭示一种微机电系统装置,其制作于其中形成有凹槽的经预先图案化的衬底上。下部电极沉积于所述衬底上并与正交的上部电极相隔空腔。所述上部电极配置成可移动以调制反射光。半反射性层及透明材料形成于所述可移动的上部电极上面。...
该专利属于IDC公司所有,仅供学习研究参考,未经过IDC公司授权不得商用。
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