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本公开涉及一种用于产生电子组件的方法。通过该方法在公共衬底上共同地产生至少一个双极型晶体管和至少一个可变电容二极管。...
该专利属于意法半导体(克洛尔2)公司所有，仅供学习研究参考，未经过意法半导体(克洛尔2)公司授权不得商用。

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