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提供了基板处理装置。基板处理装置包括工艺腔室、卡盘和聚焦环，其中：所述工艺腔室提供针对基板的工艺处理空间；所述卡盘支承所述基板；所述聚焦环布置为围绕所述卡盘的边缘，其中，所述聚焦环包括具有不同的介电常数的多个层，并且所述多个层中的每个的介电...
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