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本发明提供一种光刻检查图形结构及光刻检查方法，所述结构至少包括对位游标图形，所述对位游标图形至少包括第一层次对位图形和第二层次对位图形，其中所述第一、第二层次对位图形分别包括相同数量的依次排列的刻度图案，然而所述第二层次对位图形的依次排列的...
该专利属于芯恩(青岛)集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芯恩(青岛)集成电路有限公司授权不得商用。

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