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本发明提供了一种光刻设备的瞳面透过率分布的检测方法。提供多种相位掩模图形，并使从不同的相位掩模图形投射出的第二级子光束分别对应在成像系统的瞳面的不同位置，从而可以对成像系统的瞳面上的多个检测点进行光瞳透过率检测，进而得到整个瞳面的透过率分布...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

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