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本发明公开一种基于超临界流体脉冲的半导体薄膜可控生长系统，属于半导体薄膜制备领域。所述半导体薄膜可控生长系统包括超临界CO...
该专利属于大连理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过大连理工大学授权不得商用。

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