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硅片碱抛后清洗用添加剂及其应用制造技术
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文档序号:26885529
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本发明公开了一种硅片碱抛后清洗用添加剂,由1~3质量份柠檬酸、0.3~0.5质量份月桂醇聚氧乙烯醚、1~2质量份乙二醇、1~2质量份硫酸钠、2~3质量份氯化钠和85~97质量份水组成。本发明的添加剂可以直接应用于现有清洗设备上,对碱抛后的硅...
该专利属于常州时创能源股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过常州时创能源股份有限公司授权不得商用。
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